在全球5G技术竞赛中,中国以410万5G基站的数量傲视群雄,这一数字不仅标志着中国在5G领域的领先地位,更是全球5G发展的一个里程碑。中国出海半导体网将深入分析中国5G技术的快速发展及其对经济社会的深远影响,同时探讨未来发展趋势。一、5G技术的发展现状基础设施建设:根据最新的数据,截至2024年8月末,中国5G基站总数达到了惊人的404.2万个,占移动基站总数的32.1%,网络规模全球第一。这一数字的增长,不仅体现了中国在5G基础设施建设上的投入和决心,也为5G技术的广泛应用提供了坚实的基础。此外,中国的5G基站建设速度在全球范围内也是首屈一指,预计到2025年全球将建有5G基站650万个,而中国的贡献将超过一半。经济影响:5G技术对经济的直接带动效应显著。2023年,5G给中国直接带动的经济总产出达1.86万亿元,直接带动经济增加值约有5512亿元,分别比2022年增长29%、41%;间接带动总产出约4.24万亿元,间接带动经济增加值约1.55万亿元,分别比2022年增长22%、22%。这些数据不仅展示了5G技术的经济价值,也预示着5G技术在未来几年将更广泛应用和深度融合。图:中国5...
在半导体行业的快速发展中,博通公司的最新技术——3.5D F2F封装技术,以其卓越的性能提升和功耗降低,成为业界关注的焦点。这项技术不仅代表了封装技术的新高度,也预示着人工智能(AI)芯片领域的新突破。中国出海半导体网将深入分析博通3.5D封装技术如何助力富士通2nm MONAKA处理器,以及这一合作对未来AI芯片市场的影响。一、技术革新:博通3.5D F2F封装技术博通的3.5D XDSiP平台技术,作为行业首个3.5D F2F封装技术,其核心优势在于能够在单一封装中集成超过6000平方毫米的硅芯片以及多达12个HBM内存堆栈。这一技术超越了传统的2.5D封装技术,实现了上下两层芯片顶部金属层的直接连接,即3D混合铜键合技术,提供了最小的电气干扰和卓越的机械强度。与传统的“面对背”式芯片垂直堆叠相比,3.5D XDSiP平台采用的“面对面”连接方式拥有高达7倍的信号密度。这一设计最大限度地减少了3D芯片堆栈中各组件间的延迟,并将平面芯片间PHY接口的功耗降低了九成。这种功耗的显著降低,对于需要处理大量数据和复杂计算的AI应用来说,具有重大意义。图:博通3.5D封装技术助力富士通2nm...
Yield Engineering Systems (YES) 公司近日宣布推出 VertaCure XP G3 固化系统,用于生产阶段。这款系统将被应用于先进的 AI 和高性能计算 (HPC) 半导体封装制造中,特别是在 2.5D/3D 封装的多个重新分布层(RDL)进行低温固化的过程。VertaCure XP G3 还可根据需求优化,支持高通量的混合键合退火解决方案。YES 长期以来在研发和大规模生产中,在固化、涂覆和退火领域一直以卓越的性能和稳定性而被广泛悉知。随着AI和HPC应用的快速发展,对半导体封装的要求越来越高。特别是在3D封装、晶圆级封装(WLP)以及高性能互连技术方面,VertaCure XP G3的推出正是应对这一趋势的关键一步。VertaCure XP G3 是 VertaCure 系列的最新产品,它是一款全自动化的 6 区真空固化系统,能够完全去除残留溶剂,确保温度分布均匀,并精确控制加热和冷却速率。其最大的优势之一是固化后没有气体排放,并且具有出色的粒子性能。在大于 200C 的工作温度下,VertaCure XP G3 可以提供 1C 的热均匀性,这对厚膜聚...
恩智浦(NXP)与台积电控股的世界先进积体电路(Vanguard International Semiconductor Corporation,简称VIS)近日宣布,将联合成立合资企业“VisionPower Semiconductor Manufacturing Company”(VSMC),并投资78亿美元在新加坡建设一座先进的300毫米晶圆厂。这项合作标志着两家公司在半导体领域的进一步深耕,特别是在汽车、工业和消费品等关键市场的芯片生产能力上。根据投资计划,VIS将拥有合资公司60%的股权,恩智浦则占40%。在资金方面,世界先进计划向合资企业注入24亿美元,恩智浦将注入16亿美元。两家公司已经同意,在未来的投资中再出资19亿美元,剩余资金则可能来自未指明的第三方或贷款。项目的建设计划将在2024年下半年启动,预计2027年开始投产,到2029年,新工厂的月产能将达到5.5万片300毫米晶圆。新建的工厂将专注于生产130纳米至40纳米的混合信号、功率管理及模拟芯片,这些芯片将广泛应用于汽车、工业、消费品和移动产品中的电源控制和信号处理等功能。尽管这些芯片的技术水平不及台积电在台湾...
GlobalFoundries(GF)近日宣布,获得了美国政府额外950万美元的联邦资金支持,这笔资金旨在推进位于佛蒙特州埃塞克斯交界处工厂的硅基氮化镓(GaN)半导体生产。这笔资金将帮助GF更接近大规模生产GaN芯片的目标。GaN技术能够在高电压和高温环境下稳定工作,广泛应用于包括汽车、数据中心、物联网、航空航天和国防等领域的射频(RF)和高功率控制系统,能够显著提升这些行业的性能和能效。此次获得的资金将进一步支持GF在GaN技术领域的投资,特别是在其领先的GaN知识产权(IP)产品组合和可靠性测试方面。GF计划继续增强其工具、设备和原型设计能力,推动在佛蒙特州实现200毫米GaN芯片的全面生产。GF负责人表示,公司致力于为客户提供一条快速且高效的路径,使他们能够利用GaN芯片技术的独特优势,开发创新设计并提升电源管理效率。GF物联网及航空航天与国防业务副总裁Nicholas Sergeant表示:“我们为GF在GaN芯片技术领域的领导地位感到自豪,GaN技术预计将在多个行业带来颠覆性的进展,提升新一代设备的射频性能,同时实现更快的充电速度和更长的电池寿命。”这笔资助由美国国防部的可...
近日,Soitec 宣布将向 GlobalFoundries (GF) 提供 300 毫米 RF-SOI 基板,支持 GF 的先进 RF-SOI 技术平台,包括其最前沿的 9SW RF 解决方案。该举措基于两家公司长期稳定的合作关系,旨在保障 5G、5G-Advanced、Wi-Fi 和其他智能移动设备射频前端 (RFFE) 模块的先进 RF-SOI 工程基板供应。RF-SOI半导体是一种具有独特结构的硅基半导体工艺材料,其全称是Radio Frequency-Silicon-On-Insulator,即射频绝缘衬底上的硅。这种材料通过引入一层绝缘埋层(通常为SiO2),实现了器件和衬底之间的全介质隔离。RF-SOI具有独特的硅/绝缘层/硅三层结构。这种结构使得RF-SOI器件在性能上表现出色,因为它能够有效地隔离器件和衬底之间的寄生电容和干扰。此外,通过绝缘埋层实现的介质隔离,RF-SOI能够显著提高器件的线性度和降低插入损耗。随着5G技术的普及和物联网的发展,RF-SOI半导体的市场需求不断增长。预计未来几年内,RF-SOI在射频前端芯片市场的占比将继续提升。GF 的 9SW RF...