半导体设备作为芯片制造的基石，其国产化进程直接关系到我国集成电路产业的自主可控。最近的SEMICON China 2025（2025年3月26日-28日于上海举办）展会上，深圳市新凯来技术有限公司（以下简称“新凯来”，SiCarrier）凭借在刻蚀、薄膜沉积等关键设备领域的突破，正逐步改写国内半导体设备市场的竞争格局，因此也就此迅速出圈。那么，这家新晋的国产半导体设备之光究竟是谁？本文中，中国出海半导体网将从技术溯源、产业链协同、技术突破、行业影响等多个维度，客观解析这家新兴企业的成长路径与发展潜力。
一、技术溯源：新凯来的研发基因与国产化起点
1. 核心团队的技术积淀
新凯来成立于2021年，是一家非常年轻的公司，但是其技术积累却不容小觑，这与其研发团队背景密切相关。传言称，其核心团队大多来自华为2012实验室，但是并未有官方消息对此进行佐证。有公开信息显示，其核心成员曾参与国内半导体设备关键技术攻关，公司核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验，联合众多国内半导体制造设备和零部件合作伙伴，为国内半导体设备厂、晶圆厂、电子电器设备厂、研究机构提供先进的解决方案。相关产品广泛应用于国内顶级制造企业和研究、测试机构。
2. 国产化设备的技术定位
在SEMICON China 2025展会上，新凯来展出了多款以中国名山命名的产品，包括外延沉积设备EPI“峨眉山”、刻蚀设备ETCH“武夷山”、化学气相沉积设备CVD“长白山”、物理气相沉积设备PVD“普陀山”、原子层沉积设备ALD“阿里山”等31款设备，几乎覆盖半导体制造全流程。这些设备覆盖了半导体制造工艺中多个关键环节，体现了新凯来在技术研发上的广度和深度。
图：新凯来在SEMICON China 2025展会上火爆出圈（图片来自网络）
3. 天生的国家队选手
新凯来的诞生与崛起，离不开其深厚的国资基因与战略布局。作为深圳市国资委全资控股的高科技企业，新凯来自成立之初便被赋予“国家队”使命，旨在突破半导体设备领域的“卡脖子”难题。其母公司深圳市重大产业投资集团（持股100%）直接隶属深圳国资委，注册资本高达15亿元，并通过国家大基金二期、中芯国际等关联方构建起“资本+技术+产业链”的闭环生态。董事长戴军身兼国家大基金二期监事及中芯国际董事，高管团队中亦有多位来自半导体产业链核心企业的成员，这种人事布局强化了技术与产业协同能力。
从政策支持看，深圳国资的强力背书为新凯来提供了资金、资源与市场准入的多重保障。例如，深圳市一期500亿元产业基金直接注入新凯来研发体系，支持其在北京、上海、西安等地建立研发中心，并加速海外技术并购。
国资背景还赋予新凯来独特的战略纵深。为其构建了从研发到量产的完整生态，使其成为国家半导体自主化战略的核心支点。（下面还会提及）
这种“国家队”定位既是对外应对技术封锁的利器，亦是对内整合资源的枢纽，标志着中国半导体产业从被动防御转向主动破局的关键转变。
二、产业链协同：从实验室到量产的关键跃迁
1. 与头部晶圆厂的验证合作
新凯来的设备已进入国内晶圆制造工厂进行应用。在SEMICON China 2025展会上，新凯来展出了多款产品模型，吸引了大批观众围观、咨询。
2. 产学研合作模式
新凯来坚持“专业、创新、开放”的理念，以技术为基础，集众家之力，攻坚克难，保障国内半导体及电子制造产业供应链安全。据了解，新凯来已经与多家顶级高校建立合作。
三、技术突破与挑战：国产设备的现实路径
1. 多品类产品矩阵的形成
新凯来在SEMICON China 2025展会上展示了覆盖半导体制造多个核心流程的工艺装备、量检测装备矩阵，包括刻蚀设备、薄膜沉积设备、外延生长设备、快速热处理设备等。这些设备满足逻辑、DRAM、NAND产品的制造，并支持PlanarFET、FinFET向GAAFET工艺演进。
图：新凯来的工艺装备全景图（图片来自网络）
2. 全球化布局的机遇与风险
新凯来在国内市场取得突破的同时，也面临国际市场的挑战。国际巨头在半导体设备领域的护城河不仅在于技术，更在于生态。比如，应用材料公司的PVD设备已形成“设备-工艺-材料”的全套解决方案，并与台积电、三星等头部晶圆厂建立了数十年的合作关系。新凯来若要打破这种生态壁垒，需要在设备稳定性、量产一致性、售后服务等环节经受长期考验。
四、行业影响：国产设备商的角色重塑
1. 对国际竞争格局的潜在改变
新凯来的崛起，标志着中国企业在半导体设备高壁垒领域迈出了实质性步伐。其推出的“名山”系列设备，直接对标国际顶尖水平，展现了在技术攻坚上的底气。
2. 对下游芯片产业的赋能
新凯来的设备进入国内晶圆制造工厂应用，有助于提升国产设备在下游芯片产业链中的占比，增强产业链的自主可控能力。
结语：国产半导体设备的理性突围
半导体设备的研发并非一朝一夕之功。新凯来已经形成产品矩阵，满足逻辑、DRAM、NAND产品的制造，并支持PlanarFET、FinFET向GAAFET工艺演进。然而，真正让客户使用并提升生产良率，切实解决问题，才是关键。因此，新凯来未来还需要一段路要走。新凯来的发展历程，折射出中国半导体设备产业的进阶之路。在刻蚀、薄膜沉积等环节，其已实现从“能用”到“好用”的跨越，但与国际领先水平仍存在1-2代的技术差距。面向未来，采取“开放合作+聚焦细分市场”的务实策略或许更为可取——在成熟制程领域深耕可靠性提升，在先进节点选择离子注入、量测等细分赛道突破，可能是更可持续的发展路径。
