光刻业务在半导体行业中扮演着至关重要的角色。它是半导体制造过程中的关键步骤之一，用于将电路图案转移到硅晶片上，从而形成微小的电子元件。光刻技术的进步直接推动了半导体制程节点的缩小。例如，随着制程节点从7nm到5nm、甚至更小，光刻技术的精度和分辨率要求不断提高。这使得半导体制造商需要不断投资于新技术和设备，以保持竞争力。此外，光刻是半导体制造中最复杂且成本较高的环节之一。光刻设备的采购、维护以及光刻胶的使用都会影响整体生产成本。此外，光刻过程中的良品率直接关系到半导体产品的产量和经济效益。因此，提升光刻工艺的效率和降低缺陷率对整个半导体行业至关重要。Onto Innovation Inc.是一家为半导体市场提供工艺控制和封装光刻解决方案的全球供应商。近日，该公司宣布已收购位于加利福尼亚州米尔皮塔斯的Lumina Instruments, Inc.
Onto Innovation的首席营销官兼高级副总裁Mike Rosa博士表示：“我们非常高兴地宣布收购Lumina Instruments，通过增加其高度差异化的激光散射技术，增强Onto Innovation的检测产品组合。这项技术将使我们服务的目标市场扩大超过2.5亿美元，包括晶圆和面板制造以及功率半导体领域的机遇。凭借这项技术，我们可以将缺陷灵敏度从750nm扩展到100nm以下，同时保持行业领先的吞吐量，并且它还可以补充我们用于面板封装应用的Firefly®检测系统。”
图：Onto Innovation战略布局收购公司及光刻业务
随着面板级封装应用向玻璃过渡，检测表面和次表面缺陷及污染的机会不断增加。同时，碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN）晶圆电源市场也在持续增长，随着晶圆尺寸分别从150毫米变为200毫米和从200毫米变为300毫米，制造过程中的工艺控制挑战也日益增多。
Lumina Instruments前首席技术官兼总裁Steven Meeks博士表示：“我们正在寻找从先进封装到复合半导体功率等一系列应用领域的技术下一阶段增长。Onto Innovation以其强大的市场渠道和对产品协同效应的关注给我们留下了深刻印象。此外，他们致力于赋能小型高效团队，并对面板级处理等新增长领域的愿景让我们的团队深受启发。”
Onto Innovation还从Kulicke and Soffa Industries, Inc.收购了光刻业务，获得了24项已颁发专利、8项待批专利以及超过200人年的半导体光刻和晶圆应用经验。凭借强大的硬件和软件技术、差异化专利以及独特的计量和光刻性能设计，该团队将加速和扩展JetStep®面板光刻路线图。
业内人士表示，预计这些收购将在未来三年内创造高达1亿美元的年收入，并在12个月内增加收益。随着人工智能、5G、物联网等新兴技术的发展，对高性能半导体的需求持续增长。这将进一步推动光刻技术的发展，促使厂商投资新设备和工艺，以应对未来的挑战。
