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投资超50亿美元 美光新厂最快2027年投入运营

美光公司计划在日本广岛县投资逾50亿美元建设一座新的DRAM芯片工厂,预计最快将于2027年投入运营。这一投资计划预计将耗资6000亿至8000亿日元,约合51亿美元。

美光科技此次投资规模超过50亿美元,显示出其对日本市场的深度布局和长远规划。这笔巨额投资将用于购买先进的生产设备、建设现代化厂房以及吸引和培养优秀的工程技术人员,新厂的建立将进一步提升美光科技在全球DRAM芯片市场的竞争力。

根据美光科技的规划,新厂将于2026年初开始动工建设,并计划安装先进的EUV(极紫外)设备以提高生产效率。在紧锣密鼓的建设过程中,美光科技将确保项目按照既定计划顺利推进。预计最快在2027年底,这座全新的DRAM芯片工厂将正式投入运营,为全球市场提供更多优质的DRAM芯片产品。

图:美光新厂最快2027年投入运营

据悉美光科技在日本建厂得到了日本政府的大力支持。日本政府已批准向美光科技提供高达1920亿日元的补贴,以支持新厂的建设和运营。这笔补贴将用于引进先进的生产设备、培养技术人才以及推动相关产业链的发展。此外,随着人工智能、大数据等技术的快速发展,DRAM芯片市场需求持续增长。美光科技此次在日本建厂将有助于满足市场需求,同时为公司带来更广阔的市场前景。

美光科技在日本拥有深厚的产业基础和技术优势。早在2013年,美光科技就收购了日本前DRAM制造大厂尔必达存储器(Elpida Memory),从而在日本积累了丰富的生产经验和技术储备。如今,美光科技在日本拥有超过4000名工程师和技术人员,这些人才将为新厂的建设和运营提供有力支持。此外,日本在半导体产业领域具有世界领先的技术水平和产业链优势,美光科技在日本建厂将能够充分利用这些优势资源,进一步提升公司的技术水平和市场竞争力。

美光科技在日本投资逾50亿美元建厂是公司在全球DRAM芯片市场战略布局中的重要一环。这一举措将加速公司在日本市场的布局和扩张,同时也将促进全球半导体产业的发展。随着新厂的建成投产,美光科技将为全球市场提供更多优质的DRAM芯片产品,进一步巩固其在全球半导体产业中的领先地位。


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