据报道，日本电子巨头佳能公司正与印度公司就专有纳米压印光刻设备进行洽谈光刻机安装事宜。纳米压印光刻技术是一种革命性的微纳加工技术，与传统的光学光刻技术相比，它通过将印有电路图案的掩模直接压印在晶圆上的抗蚀剂上，实现电路图案的转移。这种方法不仅简化了制造流程，还大幅降低了生产成本和能耗。并且有更高的分辨率和更少的材料浪费，因此在半导体制造领域具有巨大的应用潜力。
佳能正与印度多家公司进行洽谈，计划安装其专有的纳米压印光刻设备。这些潜在合作伙伴包括塔塔集团、台湾力晶半导体制造公司（PSMC）以及Murugappa集团旗下的CG Power公司，它们都在积极推动印度代工行业的发展。
印度作为世界上人口第二多的国家，拥有庞大的市场需求和丰富的劳动力资源。近年来，印度政府大力推动半导体产业的发展，计划在未来几年内建设多个半导体制造基地，以吸引全球半导体企业前来投资。佳能公司的进军将为印度半导体产业带来更多的技术和经验支持，推动印度半导体产业的快速发展。
图：佳能纳米压印光刻机进军印度
佳能的纳米压印光刻机以其低成本和低能耗的特点，为小型和中型半导体制造商提供了生产先进芯片的新途径。与传统的EUV光刻技术相比，佳能的NIL技术在制造成本和电量消耗上具有显著优势，有望降低将近四成的制造成本和九成的电量。
佳能技术的引入预计将极大地推动印度半导体产业的发展。除了提供先进的制造设备外，佳能还计划为印度工程师提供技能发展培训，利用其在海外的扩展现实（XR）培训和网络学习资源。
据佳能公司总裁兼首席执行官Manabu Yamazaki表示，佳能已经与印度及全球多家半导体公司进行了初步讨论，并计划为印度的工程师提供技能发展培训。这一举措将有助于提高印度半导体产业的技术水平和竞争力，促进印度半导体产业的长期发展。
佳能纳米压印光刻技术的引入，不仅为印度半导体产业提供了一种成本效益更高的制造方案，也为印度在全球半导体产业链中占据了更有利的位置。
