根据媒体报告，比利时微电子研究中心（IMEC）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬开设联合High-NA光刻实验室。
实验室的核心设备是一台原型高数值孔径EUV扫描仪（TWINSCAN EXE: 5000），它配备了先进的处理和计量工具，旨在推动未来芯片制造技术的突破。这台光刻机不仅代表了当前光刻技术的巅峰，也是未来芯片制造能力提升的关键。
High-NA EUV光刻技术是实现更小、更高效芯片制造的关键。实验室的启用预示着这一技术将很快从实验室走向大规模生产。预计到2025-2026年，High-NA EUV技术将实现大规模量产，这将极大地推动全球半导体产业的发展。
0.55 NA EUV 扫描仪和基础设施的准备工作始于 2018 年，在此之前，ASML 和 ZEISS 已经能够开发高 NA EUV 扫描仪专用解决方案，涉及光源、光学元件、镜头变形、拼接、降低景深、边缘位置误差和叠加精度。与此同时，imec 与其扩展的供应商网络紧密合作，准备了图案化生态系统，包括开发先进的光刻胶和底层材料、光掩模、计量和检测技术、（变形）成像策略、光学邻近校正 (OPC) 以及集成图案化和蚀刻技术。准备工作最近取得了首次曝光，首次展示了使用 0.55 NA EUV 原型扫描仪在 Veldhoven 的金属氧化物光刻胶 (MOR) 上印刷的 10 纳米密集线（20 纳米间距）。
图：ASML-imec联合高NA EUV光刻实验室（图源：SILICON SEMICONDUCTOR）
阿斯麦作为光刻技术的领军企业，一直致力于推动技术的创新和进步。IMEC则是全球领先的微电子研究中心，拥有强大的研发实力和丰富的经验。两者的强强联合，为光刻技术的研发和应用提供了强大的支持。
然而，这项技术的成功应用并非没有挑战。最新一代的High NA EUV光刻机体积庞大，相当于一台双层巴士，重量高达150吨。其复杂的组装和运输过程要求极高的精密和专业，这无疑增加了制造和运营的难度。
尽管面临种种挑战，High NA EUV光刻机的经济价值却是无可估量的。据透露，这款光刻机的售价高达3.5亿欧元（约合人民币27亿元），这不仅反映了其技术含量，也显示了市场对其的高度需求。随着技术的成熟，它将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备工具。
阿斯麦和IMEC的这一联合实验室的启用，对整个半导体行业产生了深远的影响。它不仅加速了技术的发展，也为全球领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供了尖端技术支持。这一合作模式为行业树立了新的标杆，预示着未来半导体技术的发展方向。
